5月27日，旭化成宣布將光掩模薄膜業(yè)務(wù)轉(zhuǎn)讓給三井化學(xué)，并已簽署了相關(guān)協(xié)議。旭化成計劃從三井化學(xué)獲得74億日元（約3.9億人民幣）作為分離后的權(quán)利和義務(wù)的對價，最終金額將根據(jù)最終協(xié)議進行調(diào)整后確定。

旭化成的光掩模薄膜業(yè)務(wù)，包括其在日本、韓國、北美和中國制造、開發(fā)和銷售，以及受委托制造光掩模薄膜的Asahi Kasei的合并子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份（業(yè)務(wù)），并預(yù)定生效日期為2023年7月1日。

今后，三井化學(xué)將充分利用旭化成旗下的巖國大竹工廠和延岡工廠，整合和結(jié)合旭化成和三井化學(xué)積累的開發(fā)制造能力，進一步拓展和提升業(yè)務(wù)。

光掩模，也叫半導(dǎo)體光罩，是半導(dǎo)體光刻工藝中的高精密工具，主要由基板和不透光材料組成，起到光刻機與大硅片的橋梁和紐帶作用。

      從規(guī)模看，光掩膜僅約占芯片總成本的13%，其價值遠低于占比38%的硅片，關(guān)注度更是與硅片相去甚遠。但小小的光掩膜價值卻非比尋常，它不僅是芯片制造中必不可少的核心材料之一，其質(zhì)量的好壞更是直接決定芯片最終的性能。

      全球領(lǐng)先的光掩模制造商的總部也大多設(shè)在日本。據(jù)CSET預(yù)計，日本企業(yè)控制了53%的商業(yè)光掩模市場，美國企業(yè)占比40%，臺灣企業(yè)占比7%。比如DNP、日本凸版印刷Toppan Photomasks兩家大廠都是日本廠商。